物理学报

2013, (15) 489-497

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不同衬底和CdCl_2退火对磁控溅射CdS薄膜性能的影响
Effects of different substrates and CdCl_2 treatment on the properties of CdS thin films deposited by magnetron sputtering

张传军;邬云骅;曹鸿;高艳卿;赵守仁;王善力;褚君浩;

摘要(Abstract):

在科宁7059玻璃,FTO,ITO,AZO四种衬底上磁控溅射CdS薄膜,并在CdCl2+干燥空气380C退火,分别研究了不同衬底和退火工艺对CdS薄膜形貌、结构和光学性能的影响.扫描电子显微镜形貌表明:不同衬底原位溅射CdS薄膜的形貌不同,退火后相应CdS薄膜的晶粒度和表面粗糙度明显增大.XRD衍射图谱表明:不同衬底原位溅射和退火CdS薄膜均为六角相和立方相的混相结构,退火前后科宁7059玻璃,FTO,AZO衬底上CdS薄膜有H(002)/C(111)最强衍射峰,ITO衬底原位溅射CdS薄膜没有明显的最强衍射峰,退火后出现H(002)/(111)最强衍射峰.紫外-可见分光光度计分析表明:AZO,FTO,ITO,科宁7059玻璃衬底CdS薄膜的可见光平均透过率依次减小,退火后相应衬底CdS薄膜的可见光平均透过率增大,光学吸收系数降低;退火显著增大了不同衬底CdS薄膜的光学带隙.分析得出:上述结果是由于不同衬底类型和退火工艺对CdS多晶薄膜的形貌、结构和带尾态掺杂浓度改变的结果.

关键词(KeyWords): CdS薄膜;磁控溅射;退火再结晶;带尾态

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 中国科学院知识创新工程重要方向项目(批准号:KGCX2-YW-384);; 上海市2012年度“科技创新行动计划”节能减排领域项目(批准号:12dz1201000)资助的课题~~

作者(Author): 张传军;邬云骅;曹鸿;高艳卿;赵守仁;王善力;褚君浩;

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